لایه نشانی بخار شیمیایی پلاسمای مستقیم (DC-PECVD)

کاربرد:

* لایه‌نشانی مواد مختلف برای ریزساخت‌ها (m icrofabrication) در فرم‌های مختلف شامل تک‌کریستال‌ها، پلی‌کریستال‌ها، آمورف و ساختار‌های با رشد هم‌بافته (e pitaxial)

* پوشش‌های مقاوم به سایش و خوردگی بر روی ابزار‌آلات، یاتاقان‌ها و مته‌ها

* نانولوله‌های کربنی

* تولید ادوات نیمه‌هادی‌ها


Certified ByTrust

معرفی محصول:

لایه‌نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از مهم‌ترین روش‌های پوشش‌دهی است که امروزه کاربرد‌های آن هم در حوزه صنعتی و هم تحقیقاتی بسیار گسترده شده است. این روش پوشش‌دهی درواقع؛ خود شامل تنوعی از روش‌ها و دستگاه‌ها می‌شود که همگی در چند ویژگی همانند عمل می‌کنند. این ویژگی‌های مشترک شامل موارد فوق است: استفاده از یک مخلوط گازی به‌عنوان پیش ماده پوشش یا محصول نهایی (محصول نهایی می‌تواند کاربرد پوششی نداشته باشد، مثل نانولوله‌های کربنی)، استفاده از پلاسما یا چشمه حرارتی برای تشویق انجام واکنش‌ها بین گونه‌های گازی و نهایتاً آماده‌سازی شرایط برای رسوب محصولات بر روی یک زیرلایه. چشمه حرارتی می‌تواند فیلمان حرارتی، امواج مایکروویو و یا تخلیه الکتریکی باشد.

لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار پلاسمایی (PECVD) نوعی فرآیند CVD است که حضور محیط پلاسما همه فرآیندهای CVD را تحت تأثیر قرار می‌دهد و سرعت و بازدهی انجام واکنش‌های مرتبط را در دما‌های به‌نسبت پایین‌تر (نسبت به استفاده از فرآیند CVD بدون حضور پلاسما) افزایش و ارتقا می‌دهد. این روش اغلب برای تولید نانو‌لوله‌های کربنی استفاده می‌شود.

مشخصات فنی:

مدل دستگاه

DC-PECVD

تعداد کوره‌ها

دارای دو کوره به قطر ۸۰ میلی‌متر به طول ۸۰ سانتی‌متر

بیشینه دمای منطقه حرارتی

۷۵۰ درجه سانتی‌گراد

میزان خلأ

۰.۰۵ تور

رآکتور

کوارتز

منبع تغذیه

منبع ولتاژ مستقیم تا ۱۰۰۰ ولت و ۱۰۰ میلی‌آمپر

کنترل‌کننده جریان گاز

دارای دو کنترل‌کننده جریان شار گاز‌های استیلن و هیدروژن

ابعاد دستگاه

۱۶۰ × ۱۸۰ × ۱۴۰ سانتی‌متر

شرکت

نوع

این محصول، تجهیز نهایی با ماهیت B2B است.

دسته‌بندی‌ها
My Cart
Categories