آزمایشگاه لیتوگرافی پایلوت
کاربرد:
اچینگ مرطوب، لیتوگرافی ساختارهای میکرو و نانو، میکرو الکترونیک، مهندسی پزشکی، آزمایشگاه نیمههادی، فیزیک و نانو
معرفی محصول:
آزمایشگاه لیتوگرافی کوچک از جمله تجهیزات آزمایشگاهی است که با ترکیب تجهیزات و دستگاههای مورد نیاز برای انجام فرآیند لیتوگرافی امکان انجام فرآیندهایی همچون پوششدهی دورانی (اسپین کوتینگ)، پیش پخت (Prebake)، پس پخت (Post bake)، لیتوگرافی تماسی (Exposure)، استریپکردن (Strip) و حتى زدایش و اچینگ فراهم میگردد.
مشخصات فنی:
* ماژول اسپین کوتر تفلونی نصبشده بر روی میز دستگاه (Spin Coater)
* کاسه و محفظه ضد اسید و قابل شستشو برای شستشوی مواد اضافی
* صفحه کاملاً لمسی با قلم مخصوص با امکان اعمال پروفیل سرعتی متشکل از ۸ بخش
* هممرکز کردن مرکز ویفر با مرکز کارگیر با دقت بالا با استفاده از الاینر
* امکان تعیین شتاب افزایش و یا کاهش سرعت تا میزان Rpm/Sec ۴۵۰
* خروجی فاضلاب مواد شوینده
* ورودی برای تزریق گاز خشی به محفظه و خنثی کردن محفظه پوششدهی
* ماژول اکسپوژر یا لیتوگرافی تماسی ماوراء بنفش (UV Contact Lithography)
* صفحهنمایش کاملاً لمسی با قلم مخصوص
* سیستم صفحه گرمشونده (Hotplate) تا دمای ۱۵۰ درجه
* سیستم لامپ UV با طول موج ثابت ۳۶۵ یا ۴۰۲ نانومتر
* تنظیم شدت نور لامپها در ۱۰ پله مجزا
* سیستم گرمایش و کنترل دمای محلول تا دمای ۶۰ درجه سانتیگراد
* تایمر کنترل زمان گرمادهی به محلول
مزایای رقابتی:
* نمایشگر دمای سلول با قابلیت کنترل دما به صورت دستی
* موقعیتدهی دقیق ویفر بر روی صفحه زیرین ماسک شیشهای یا طلقی با صفحه زیرین کاملاً استیل
* امکان توقف پروسه نوردهی و تغییر شدت نور در بین پروسه
* ماژول مخزن ذخیره و گرمکننده سیال
* بدنه ضد اسید کاملاً مقاوم در برابر حلالها
* مکش از پشت و بالای سلولها به کمک فن قوی تعبیه شده بالای دستگاه
* درب بالای سلول برای جلوگیری از تبخیر آب محلولها
* نمایش پروفیل سرعت دورانی به صورت آنلاین بر روی صفحه دستگاه به همراه ذخیره برنامههای پرکاربرد و فراخوانی مجدد جهت استفاده
* امکان کنترل فرآیند به دو صورت دستی و خودکار تا سرعت دورانی ۵۰۰۰ دور در دقیقه
* صفحه گردنده آلومینیومی آندایز شده برای ویفر ۴ اینچی، ۶ اینچی و بالا بر حسب درخواست
* ضمانت ۱ ساله
* ۵ سال خدمات پس از فروش
شرکت | |
---|---|
نوع | این محصول، تجهیز نهایی با ماهیت B2B است. |